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紅外探傷儀檢測(cè)

檢測(cè)報(bào)告圖片樣例

紅外探傷儀檢測(cè)報(bào)告如何辦理?測(cè)試哪些項(xiàng)目呢?檢測(cè)費(fèi)用價(jià)格是多少呢?下面小編為您解答。百檢也可依據(jù)相應(yīng)紅外探傷儀檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)或者根據(jù)您的需求設(shè)計(jì)檢測(cè)方案?!驹斍樽稍儯?32-6275-2056】。做檢測(cè),上百檢!我們只做真實(shí)檢測(cè)。

檢測(cè)周期

一般3-15個(gè)工作日,可加急。

檢測(cè)方式

可寄樣檢測(cè)、目測(cè)檢測(cè)、見(jiàn)證試驗(yàn)、現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)等。

檢測(cè)費(fèi)用

具體根據(jù)紅外探傷儀檢測(cè)檢測(cè)數(shù)量和項(xiàng)目而定。詳情請(qǐng)咨詢?cè)诰€客服。

檢測(cè)產(chǎn)品

0紅外探傷儀簡(jiǎn)介

在特定光源和紅外探測(cè)器的協(xié)助下,HS-NIR-01型紅外探傷測(cè)試儀能夠穿透200mm深度的硅塊,純硅料幾乎不吸收這個(gè)波段的波長(zhǎng),但是如果硅塊里面有微粒、夾雜(通常為SiC)、隱裂,則這些雜質(zhì)將吸收紅外光,因此在成像系統(tǒng)中將呈現(xiàn)出來(lái),而且這些圖像將通過(guò)我們的軟件自動(dòng)生成三維模型圖像。

1紅外探傷儀部分技術(shù)參數(shù)

■主要探測(cè)指標(biāo):夾雜(通常為SiC),隱裂,微粒等

■硅塊電阻率:≥0.8Ohm*Cm(推薦)

■檢測(cè)時(shí)間:平均每個(gè)硅塊1分鐘

■探測(cè)深度:200mm

■外框和箱體

>尺寸:143x53x55

>外框采用數(shù)控工程鋁合金

>外框是覆蓋靜電強(qiáng)力漆鋁面板

>主機(jī)重量:98 kg

>附件重量:25 kg

■旋轉(zhuǎn)臺(tái)

>采用單軸伺服電機(jī)

>承載量:40kg

> 具有過(guò)流保護(hù)以防止損傷和電機(jī)燒毀

>無(wú)步進(jìn)損失,高分辨率解碼機(jī)器

■紅外光源

>高強(qiáng)度NIR鹵燈,273mm加熱波長(zhǎng)

>功率:230V, 1000W

>溫度:25-60攝氏度

>光強(qiáng)可通過(guò)軟件控制

>軟件具有過(guò)熱保護(hù)

■觀測(cè)儀

>采用紅外CCD控溫

>12位ADC

> 頻率:60Hz和100Hz兩個(gè)選擇

>像素間距: 30μm

>分辨率:: 320x256 像素

>可手動(dòng)調(diào)節(jié)紅外鏡頭

2紅外探傷儀儀器特點(diǎn)

■為太陽(yáng)能多晶硅片過(guò)程中的質(zhì)量控制提供了強(qiáng)大的監(jiān)測(cè)工具

■檢測(cè)速度快,平均每個(gè)硅塊檢測(cè)時(shí)間為不超過(guò)1分鐘

■NIRVision軟件能夠分析4面探傷結(jié)果,并且直接將結(jié)果轉(zhuǎn)換成三維模型圖像

■成像過(guò)程將自動(dòng)標(biāo)出夾雜的位置所在

■獨(dú)特的加強(qiáng)型內(nèi)插法為高分辨率的雜質(zhì)探傷功能提供了強(qiáng)大的技術(shù)保障

■采用歐洲數(shù)控工程鋁合金材料

■表面都采用了高強(qiáng)度漆面和電氧化工藝保護(hù)

■系統(tǒng)外框采用高質(zhì)量工業(yè)設(shè)計(jì)

■所有的部件的設(shè)計(jì)都達(dá)到了長(zhǎng)期高強(qiáng)度使用及較小維護(hù)量的要求

■能夠通過(guò)自動(dòng)或手動(dòng)旋轉(zhuǎn)對(duì)硅塊的前后左右四面和上下兩面進(jìn)行全面探傷。

■紅外光源通過(guò)交直流光源進(jìn)行控制,光強(qiáng)可以通過(guò)軟件直接控制,同時(shí)它具有過(guò)熱保護(hù)功能

■同時(shí)軟件包含了雜質(zhì)圖像的管理分析功能

■穩(wěn)定性和耐用性俱佳。

■探傷測(cè)試面進(jìn)行拋光處理,因此我們推薦在線切割之前進(jìn)行紅外探傷

■紅外成像光源受電阻率影響,硅塊電阻率越低,則對(duì)紅外光的吸收越多

■一般電阻率不能低于0.5Ohm*Cm,我們推薦的電阻率在0.8Ohm*Cm以上

3紅外探傷儀工作原理

多晶硅紅外探傷測(cè)試儀主要由紅外光源,旋轉(zhuǎn)臺(tái),成像系統(tǒng)構(gòu)成。成像系統(tǒng)的參數(shù)設(shè)置包括光照亮度,對(duì)比度,伽馬射線和一體化的時(shí)間設(shè)置,獲取模式選擇和損壞像素管理。旋轉(zhuǎn)臺(tái)由單軸伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng),同時(shí)擁有光電編碼器的位置檢查的功能。軟件也可以直接控制伺服電機(jī)。

通常都是在硅塊清洗處理后線切割前進(jìn)行紅外探傷,在線切割前進(jìn)行紅外探傷不僅可以減少線痕片,而且可以減少SiC斷線,大大提高效益,這些夾雜都可以清晰地反映在我們的紅外探傷系統(tǒng)中。斷線的修復(fù)是一個(gè)費(fèi)時(shí)費(fèi)力的工作,同時(shí)不是所有的斷線都能夠成功。因此它是多晶硅片生產(chǎn)中不可或缺的工具。

4紅外探傷儀儀器簡(jiǎn)介

紅外探傷測(cè)試儀是專門用于多晶硅片生產(chǎn)中的硅塊硅棒硅片的裂縫、雜質(zhì)、黑點(diǎn)、陰影、微晶等缺陷探傷的儀器。

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檢測(cè)流程步驟

檢測(cè)流程步驟

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