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檢測周期
一般3-15個工作日，可加急。
檢測方式
可寄樣檢測、目測檢測、見證試驗、現(xiàn)場檢測等。
檢測費用
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檢測產(chǎn)品
0PNP型三*管簡介
PNP型三*管，是由2塊P型半導(dǎo)體中間夾著1塊N型半導(dǎo)體所組成的三*管，所以稱為PNP型三*管。也可以描述成，電流從發(fā)射*E流入的三*管。
1PNP型三*管概念
PNP型三*管發(fā)射*電位,集電*電位,UBE<0.
三*管按結(jié)構(gòu)分,可分為NPN型三*管和PNP型三*管.
右圖PNP型三*管.
三*管導(dǎo)通時IE=（放大倍數(shù)+1)*IB和ICB沒有關(guān)系，ICB=0 ICB>0時,可能三*管就有問題,所以三*管在正常工作時,不管是工作在放大區(qū)還是飽和區(qū)ICB=0
當(dāng)UEB>0.7V(硅)(鍺0.2V),RC/RB<放大倍數(shù)時,三*管工作在飽和區(qū),反之就工作在放大區(qū)
2PNP型三*管區(qū)別
PNP型三*管與NPN型三*管區(qū)別
2個PN結(jié)的方向不一致。
PNP是共陰*，即兩個PN結(jié)的N結(jié)相連做為基*，另兩個P結(jié)分別做集電*和發(fā)射*；電路圖里標(biāo)示為箭頭朝內(nèi)的三*管。
NPN則相反
工作原理：
晶體三*管按材料分有兩種：鍺管和硅管。而每一種又有NPN和PNP兩種結(jié)構(gòu)形式，但使用較多的是硅NPN和PNP兩種三*管，兩者除了電源*性不同外，其工作原理都是相同的，下面僅介紹NPN硅管的電流放大原理。
對于NPN管，它是由2塊N型半導(dǎo)體中間夾著一塊P型半導(dǎo)體所組成，發(fā)射區(qū)與基區(qū)之間形成的PN結(jié)稱為發(fā)射結(jié),而集電區(qū)與基區(qū)形成的PN結(jié)稱為集電結(jié),三條引線分別稱為發(fā)射*e、基*b和集電*c。
當(dāng)b點電位高于e點電位零點幾伏時，發(fā)射結(jié)處于正偏狀態(tài)，而C點電位高于b點電位幾伏時，集電結(jié)處于反偏狀態(tài)，集電*電源Ec要高于基*電源Ebo。
在制造三*管時，有意識地使發(fā)射區(qū)的多數(shù)載流子濃度大于基區(qū)的，同時基區(qū)做得很薄，而且，要嚴(yán)格控制雜質(zhì)含量，這樣，一旦接通電源后，由于發(fā)射結(jié)正偏，發(fā)射區(qū)的多數(shù)載流子（電子）基*區(qū)的多數(shù)載流子（空穴）很容易地越過發(fā)射結(jié)互相向?qū)Ψ綌U散，但因前者的濃度基大于后者，所以通過發(fā)射結(jié)的電流基本上是電子流，這股電子流稱為發(fā)射*電流Ie。
由于基區(qū)很薄,加上集電結(jié)的反偏，注入基區(qū)的電子大部分越過集電結(jié)進入集電區(qū)而形成集電集電流Ic，只剩下很少（1-10%）的電子在基區(qū)的空穴進行復(fù)合，被復(fù)合掉的基區(qū)空穴由基*電源Eb重新補給，從而形成了基*電流Ibo.根據(jù)電流連續(xù)性原理得：
Ie=Ib+Ic
這就是說，在基*補充一個很小的Ib，就可以在集電*上得到一個較大的Ic，這就是所謂電流放大作用，Ic與Ib是維持一定的比例關(guān)系，即：
β1=Ic/Ib
式中：β1--稱為直流放大倍數(shù)，
集電*電流的變化量△Ic與基*電流的變化量△Ib之比為：
β= △Ic/△Ib
式中β--稱為交流電流放大倍數(shù)，由于低頻時β1和β的數(shù)值相差不大，所以有時為了方便起見，對兩者不作嚴(yán)格區(qū)分，β值約為幾十至一百多。
同理，PNP三*管則主要是形成空穴電流，其余原理基本相近。
三*管是一種電流放大器件，但在實際使用中常常利用三*管的電流放大作用，通過電阻轉(zhuǎn)變?yōu)殡妷悍糯笞饔谩?/p>
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檢測流程步驟
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