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磁控濺射鍍膜檢測(cè)用處

參考答案:

磁控濺射鍍膜檢測(cè)一般有什么檢測(cè)方法?檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)有哪些?費(fèi)用是多少?百檢可依據(jù)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)制定試驗(yàn)方案。對(duì)光密度、膜厚度、反射率、蝕刻時(shí)間、均勻性檢測(cè)等項(xiàng)目進(jìn)行檢測(cè)分析。并出具嚴(yán)謹(jǐn)公正的磁控濺射鍍膜檢測(cè)報(bào)告。

檢測(cè)項(xiàng)目

磁控濺射鍍膜等。

適用范圍

光密度、膜厚度、反射率、蝕刻時(shí)間、均勻性檢測(cè)、表面質(zhì)量檢測(cè)、膜厚度檢測(cè)等。

相關(guān)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)

YS/T 719-2009 平面磁控濺射靶材.光學(xué)薄膜用硅靶

GB/T 32025-2015 鍍鋁玻璃鏡

JC/T 2201-2013 鍍膜玻璃用靶材

GB/T 34649-2017 磁控濺射用釕靶

GB/T 15870-1995 硬面光掩模用鉻薄膜

ISO 21164-2018 金屬和其他無機(jī)涂層 - 用于工程目的的直流磁控濺射銀涂層 - 涂層附著力的測(cè)量

GB/T 29557-2013 表面化學(xué)分析 深度剖析 濺射深度測(cè)量

溫馨提示:以上內(nèi)容僅供參考使用,更多檢測(cè)需求請(qǐng)咨詢客服。

檢測(cè)流程步驟

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