俄歇電子能譜表面檢測(cè)報(bào)告如何辦理？檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)有哪些？百檢第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)，嚴(yán)格按照俄歇電子能譜表面檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行測(cè)試和評(píng)估。做檢測(cè)，找百檢。我們只做真實(shí)檢測(cè)。

涉及俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)有117條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，俄歇電子能譜 表面涉及到分析化學(xué)、長(zhǎng)度和角度測(cè)量、光學(xué)設(shè)備、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、金屬材料試驗(yàn)、電子元器件綜合、無(wú)損檢測(cè)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測(cè)量。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，俄歇電子能譜 表面涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、金屬化學(xué)分析方法綜合、化學(xué)、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理、光學(xué)測(cè)試儀器、綜合測(cè)試系統(tǒng)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法。

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 36504-2018印刷線路板表面污染物分析 俄歇電子能譜

GB/T 29732-2021表面化學(xué)分析 中等分辨俄歇電子能譜儀 元素分析用能量標(biāo)校準(zhǔn)

GB/T 36533-2018硅酸鹽中微顆粒鐵的化學(xué)態(tài)測(cè)定 俄歇電子能譜法

GB/T 41064-2021表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

GB/T 41072-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 紫外光電子能譜分析指南

GB/T 41073-2021表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報(bào)告的基本要求

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

ISO/TR 18394:2016表面化學(xué)分析. 俄歇電子能譜學(xué). 提取化學(xué)信息

ISO 21270:2004表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

ISO 16242:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜術(shù)(AES)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)

ISO 29081:2010表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜法.電荷控制和電荷調(diào)整用報(bào)告法

ISO/DIS 17973:2023表面化學(xué)分析 中分辨率俄歇電子能譜儀 元素分析能級(jí)的校準(zhǔn)

ISO/TR 18394:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.化學(xué)信息的推導(dǎo)

ISO 15471:2004表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.選定的儀器性能參數(shù)的描述

ISO 15471:2016表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.選定的儀器性能參數(shù)的描述

ISO/CD 17973表面化學(xué)分析 中分辨率俄歇電子能譜儀 元素分析能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

ISO 18516:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

ISO 17109:2022表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測(cè)定濺射速率的方法

ISO/TR 19319:2003表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

ISO 20903:2019表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)所需的信息

ISO/DIS 18118:2023表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和 X 射線光電子能譜 使用實(shí)驗(yàn)確定的相對(duì)靈敏度因子進(jìn)行均質(zhì)材料定量分析的指南

ISO/FDIS 18118:2023表面化學(xué)分析 - 俄歇電子能譜和 X 射線光電子能譜 - 使用實(shí)驗(yàn)確定的相對(duì)靈敏度因子進(jìn)行均質(zhì)材料定量分析的指南

ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能普和X射線光電子光譜.通報(bào)結(jié)果所需峰值強(qiáng)度和信息的測(cè)定方法

ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

ISO 18118:2004表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

ISO 18118:2015表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

ISO 19830:2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求

ISO 16129:2018表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評(píng)估X射線光電子能譜儀日常性能的方法

國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

GB/Z 32494-2016表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜 化學(xué)信息的解析

GB/T 25187-2010表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述

GB/T 28632-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測(cè)定

GB/T 21006-2007表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)的線性

GB/T 26533-2011俄歇電子能譜分析方法通則

GB/T 29558-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性

GB/T 29732-2013表面化學(xué)分析 中等分辨率俄歇電子譜儀 元素分析用能量標(biāo)校準(zhǔn)

GB/T 29731-2013表面化學(xué)分析 高分辨俄歇電子能譜儀 元素和化學(xué)態(tài)分析用能量標(biāo)校準(zhǔn)

GB/T 29556-2013表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測(cè)到的樣品面積的測(cè)定

GB/T 28893-2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果所需的信息

GB/T 30702-2014表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南

GB/T 31470-2015俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測(cè)試中確定檢測(cè)信號(hào)對(duì)應(yīng)樣品區(qū)域的通則

英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

PD ISO/TR 18394:2016表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜 化學(xué)信息的推導(dǎo)

BS ISO 16242:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜術(shù)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)(AEC)

BS ISO 21270:2004表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度尺度的線性

BS ISO 29081:2010表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜法.電荷控制和電荷調(diào)整用報(bào)告法

BS PD ISO/TR 18394:2016表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.化學(xué)信息的推導(dǎo)

BS ISO 15471:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.選定的儀器性能參數(shù)的描述

BS ISO 15471:2016跟蹤更改 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜 所選儀器性能參數(shù)的描述

BS ISO 18516:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

BS ISO 21270:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性度

BS ISO 24236:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.強(qiáng)度標(biāo)的可重復(fù)性和一致性

BS ISO 17973:2016跟蹤更改 表面化學(xué)分析 中分辨率俄歇電子能譜儀 元素分析能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

BS ISO 20903:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X-射線光電光譜學(xué).測(cè)定峰強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果要求的信息

BS ISO 20903:2019跟蹤更改 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 用于確定峰值強(qiáng)度的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)所需的信息

23/30461294 DCBS ISO 18118 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 使用實(shí)驗(yàn)確定的相對(duì)靈敏度因子進(jìn)行均質(zhì)材料定量分析的指南

BS ISO 18118:2015跟蹤更改 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 使用實(shí)驗(yàn)確定的相對(duì)靈敏度因子進(jìn)行均質(zhì)材料定量分析的指南

BS ISO 17109:2015表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

BS ISO 17109:2022表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率的測(cè)定方法...

21/30433862 DCBS ISO 17109 AMD1 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率測(cè)定方法

BS ISO 18118:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性系數(shù)的使用指南

BS ISO 19830:2015表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的*低報(bào)告要求

法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

NF ISO 16242:2012表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜(AES)數(shù)據(jù)記錄和報(bào)告

NF ISO 24236:2006表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜 能級(jí)的重復(fù)性和恒定性

NF X21-072*NF ISO 16242:2012表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜術(shù)(AES)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)

NF ISO 17973:2006表面化學(xué)分析 中分辨率俄歇電子能譜儀 元素分析能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

NF ISO 29081:2010表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜 電荷控制和校正所采用的方法的指示

NF X21-068*NF ISO 29081:2010表面化學(xué)分析 俄歇電子光譜法 電荷控制和校正用方法的報(bào)告

NF X21-059*NF ISO 24236:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.強(qiáng)度等級(jí)的重復(fù)性和持久性

NF ISO 17974:2009表面化學(xué)分析 高分辨率俄歇電子能譜儀 用于元素和化學(xué)狀態(tài)分析的能量標(biāo)度校準(zhǔn)

NF X21-058:2006表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測(cè)定峰強(qiáng)度使用的方法和報(bào)告結(jié)果時(shí)需要的信息

NF X21-067*NF ISO 17974:2009表面化學(xué)分析.高分辨率俄歇(Auger)電子分光計(jì).元素及化學(xué)物質(zhì)狀態(tài)分析用能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 35158-2017俄歇電子能譜儀檢定方法

GB/T 32565-2016表面化學(xué)分析俄歇電子能譜（AES）數(shù)據(jù)記錄與報(bào)告的規(guī)范要求

GB/T 32998-2016表面化學(xué)分析俄歇電子能譜荷電控制與校正方法報(bào)告的規(guī)范要求

韓國(guó)科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

KS D ISO 21270:2005表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性

KS D ISO 21270-2005(2020)表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強(qiáng)度標(biāo)度的線性

KS D ISO 15471-2005(2020)表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜學(xué)－選定儀器性能參數(shù)的描述

KS D ISO 15471:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.選定的儀器性能參數(shù)的描述

KS D ISO 17973-2011(2016)表面化學(xué)分析中分辨率俄歇電子能譜儀元素分析用能標(biāo)的校準(zhǔn)

KS D ISO 19319-2005(2020)表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測(cè)定

KS D ISO 17973-2011(2021)表面化學(xué)分析——中分辨率俄歇電子光譜儀——元素分析用能標(biāo)的校準(zhǔn)

KS D ISO 17974-2011(2016)表面化學(xué)分析高分辨率俄歇電子能譜儀元素和化學(xué)狀態(tài)分析用能標(biāo)的校準(zhǔn)

KS D ISO 17974-2011(2021)表面化學(xué)分析——高分辨率俄歇電子光譜儀——元素和化學(xué)狀態(tài)分析用能標(biāo)的校準(zhǔn)

KS D ISO 18118-2005(2020)表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子的使用指南

KS D ISO 19319:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對(duì)橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測(cè)

KS D ISO 18118:2005表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感性因子的使用指南

未注明發(fā)布機(jī)構(gòu)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

BS ISO 18516:2006(2010)表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測(cè)定

BS ISO 21270:2004(2010)表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度線性度

BS ISO 17974:2002(2010)表面化學(xué)分析 高分辨率俄歇電子能譜儀 元素和化學(xué)態(tài)分析能級(jí)的校準(zhǔn)

德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

DIN ISO 16242:2020-05表面化學(xué)分析 在俄歇電子能譜(AES)中記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)

DIN ISO 16242:2020表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜（AES）中的數(shù)據(jù)記錄和報(bào)告（ISO 16242:2011）；英文文本

DIN ISO 16129:2020-11表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評(píng)估程序

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-機(jī)械，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

JB/T 6976-1993俄歇電子能譜術(shù)元素鑒定方法

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

JIS K 0161:2010表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法.選定的儀器性能參數(shù)的描述

JIS K 0167:2011表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感因子的使用指南

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

SJ/T 10457-1993俄歇電子能譜術(shù)深度剖析標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則

SJ/T 10458-1993俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則

美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

ASTM E1127-91(1997)俄歇電子能譜學(xué)中的深度壓形的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1127-08(2015)俄歇電子能譜學(xué)中的深度壓形的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1127-08俄歇電子能譜學(xué)中的深度壓形的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E996-10(2018)俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E996-19俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程

ASTM E995-16俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E996-04俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E996-10俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E995-11在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E996-94(1999)俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程

ASTM E984-95(2001)識(shí)別俄歇電子能譜中化學(xué)效應(yīng)和基質(zhì)效應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E984-95識(shí)別俄歇電子能譜中化學(xué)效應(yīng)和基質(zhì)效應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E984-12(2020)識(shí)別俄歇電子能譜中化學(xué)效應(yīng)和基質(zhì)效應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E984-06用俄歇電子能譜法鑒別化學(xué)效應(yīng)和基體效應(yīng)用標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E984-12用俄歇電子能譜法鑒別化學(xué)效應(yīng)和基體效應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)指南

ASTM E1217-11用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程

ASTM E1217-11(2019)用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測(cè)到的信號(hào)的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐

ASTM E1217-00用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范

ASTM E1217-05用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測(cè)定影響檢測(cè)信號(hào)的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)范

RU-GOST R，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

GOST R ISO 16242-2016確保測(cè)量一致性的國(guó)家系統(tǒng). 表面化學(xué)分析. 俄歇電子能譜學(xué) (AES) 的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于俄歇電子能譜 表面的標(biāo)準(zhǔn)

AS ISO 18118:2006表面化學(xué)分析．俄歇電子能譜法和X射線光電子光譜法．均質(zhì)材料定量分析中實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏系數(shù)使用指南

AS ISO 17974:2006表面化學(xué)分析．高分辨率俄歇電子分光計(jì)法．元素及化學(xué)物質(zhì)狀態(tài)分析用能量標(biāo)度校準(zhǔn)

檢測(cè)流程步驟

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