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檢測(cè)執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽：
標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電感耦合等離子體質(zhì)譜法（ICP-MS）測(cè)定硅片表面金屬元素含量的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅單晶拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測(cè)定，測(cè)定范圍為108 cm-2～1013cm-2。本標(biāo)準(zhǔn)同時(shí)也適用于硅退火片、硅擴(kuò)散片等無(wú)圖形硅片表面痕量金屬元素含量的測(cè)定。
標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 39145-2020
標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)：硅片表面金屬元素含量的測(cè)定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法
英文名稱(chēng)：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：2020-10-11
實(shí)施日期：2021-09-01
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)號(hào)（CCS）：冶金>>金屬化學(xué)分析方法>>H17半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)號(hào)（ICS）：冶金>>77.040金屬材料試驗(yàn)
起草單位：南京國(guó)盛電子有限公司、有研半導(dǎo)體材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院、無(wú)錫華瑛微電子技術(shù)有限公司、龍騰半導(dǎo)體有限公司、廈門(mén)科鑫電子有限公司
歸口單位：全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203)、全
發(fā)布單位：國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局.
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