檢測(cè)報(bào)告圖片模板：
檢測(cè)執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽：
標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用酸從多晶硅塊表面浸取金屬雜質(zhì),并用電感耦合等離子質(zhì)譜儀定量檢測(cè)多晶硅表面上的金屬雜質(zhì)痕量分析方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于堿金屬、堿土金屬和第一系列過(guò)渡元素如鈉、鉀、鈣、鐵、鎳、銅、鋅以及其他元素如鋁的檢測(cè)。本標(biāo)準(zhǔn)適用于各種棒、塊、粒、片狀多晶表面金屬污染物的檢測(cè)。由于塊、片或粒形狀不規(guī)則,面積很難準(zhǔn)確測(cè)定,故根據(jù)樣品重量計(jì)算結(jié)果,使用的樣品重量為50g~300g,檢測(cè)限為0.01ng/mL。
標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 24582-2009
標(biāo)準(zhǔn)名稱：酸浸取 電感耦合等離子質(zhì)譜儀測(cè)定多晶硅表面金屬雜質(zhì)
英文名稱：Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry
標(biāo)準(zhǔn)類型：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：2009-10-30
實(shí)施日期：2010-06-01
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)（CCS）：冶金>>半金屬與半導(dǎo)體材料>>H80半金屬與半導(dǎo)體材料綜合
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)（ICS）：電氣工程>>29.045半導(dǎo)體材料
起草單位：新光硅業(yè)科技責(zé)任有限公司
歸口單位：全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203)
發(fā)布單位：國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫.
免責(zé)聲明：(更多標(biāo)準(zhǔn)請(qǐng)先聯(lián)系客服查詢！)
1.本站標(biāo)準(zhǔn)庫(kù)為非營(yíng)利性質(zhì)，僅供各行人士相互交流、學(xué)習(xí)使用，使用標(biāo)準(zhǔn)請(qǐng)以正式出版的版本為準(zhǔn)。
2.全部標(biāo)準(zhǔn)資料均來(lái)源于網(wǎng)絡(luò)，不保證文件的準(zhǔn)確性和完整性，如因使用文件造成損失，本站不承擔(dān)任何責(zé)任。
3.全部標(biāo)準(zhǔn)資料均來(lái)源于網(wǎng)絡(luò)，本站不承擔(dān)任何技術(shù)及版權(quán)問(wèn)題，如有相關(guān)內(nèi)容侵權(quán)，請(qǐng)聯(lián)系我們刪除。
