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標準簡介：本標準規(guī)定了硅外延片的產品分類、技術要求、試驗方法和檢驗規(guī)則及標志、包裝運輸、貯存等。本標準適用于在Ｎ 型硅拋光片襯底上生長的ｎ型外延層（Ｎ／Ｎ＋ ）和在ｐ型硅拋光片襯底上生長的Ｐ型外延層（Ｐ／Ｐ＋ ）的同質硅外延片。產品主要用于制作硅半導體器件。其他類型的硅外延片可參照使用。
標準號：GB/T 14139-2009
標準名稱：硅外延片
英文名稱：Silicon epitaxial wafers
標準類型：國家標準
標準性質：推薦性
標準狀態(tài)：作廢
發(fā)布日期：2009-10-30
實施日期：2010-06-01
中國標準分類號（CCS）：冶金>>半金屬與半導體材料>>H80半金屬與半導體材料綜合
國際標準分類號（ICS）：電氣工程>>29.045半導體材料
替代以下標準：替代GB/T 14139-1993;被GB/T 14139-2019代替
起草單位：寧波立立電子股份有限公司
歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會
發(fā)布單位：國家質量監(jiān)督檢驗檢疫.
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