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檢測(cè)執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽：
標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介：本準(zhǔn)則的范圍是制定有關(guān)光掩模缺陷分類用的標(biāo)準(zhǔn)術(shù)語，并規(guī)定缺陷大小的表達(dá)方法。確定光掩模缺陷時(shí)應(yīng)遵循這個(gè)準(zhǔn)則。
標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 16880-1997
標(biāo)準(zhǔn)名稱：光掩模缺陷分類和尺寸定義的準(zhǔn)則
英文名稱：Guidelines for photomask defect classification and size definition
標(biāo)準(zhǔn)類型：國家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：1997-06-20
實(shí)施日期：1998-03-01
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)（CCS）：電子元器件與信息技術(shù)>>電子工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備>>L97加工專用設(shè)備
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)（ICS）：電子學(xué)>>31.020電子元件綜合
起草單位：中國科學(xué)院微電子中心
歸口單位：全國半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
發(fā)布單位：國家技術(shù)監(jiān)督局
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